普泰克制冷设备
专注于半导体行业温控
服务热线：15214387784
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产品型号：
更新时间：2026-10-19
厂商性质：生产厂家
访 问 量 ：5
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PECVD腔体冷却：稳定反应腔体温度，减少热漂移对沉积均匀性的影响。
基座/静电吸盘温控：为基座换热回路提供稳定冷却或加热介质，提升工艺一致性。
射频电源与匹配网络冷却：维持射频部件工作温度，降低因过热导致的功率波动。
真空泵组冷却：为干泵、分子泵或冷凝泵提供稳定冷却水，保障真空系统稳定运行。
工艺水温管理：为PECVD配套冷却水回路提供恒温、恒流、恒压支持。
研发与中试验证：在工艺开发阶段用于温度窗口筛选、热平衡验证和工艺重复性评估。
控温范围：基座、腔体、电源和泵组所需温度区间不同，需分别确认。
制冷量与热负荷：根据腔体发热、射频损耗、泵组散热和管路热损计算。
流量与压力：需匹配PECVD设备水冷接口、管路阻力和冷却回路设计。
控温精度：常规冷却可选±0.5℃左右；对薄膜均匀性要求较高时，建议按±0.1℃级配置。
介质与洁净度：确认使用去离子水、乙二醇水溶液或导热油，并明确洁净等级。
通讯与控制：确认是否需要Modbus RTU/TCP、PLC联动、远程报警或数据记录。
普泰克PECVD配套冷水机/温控系统以精密控温、密闭循环、快速响应、低振动和智能监控为基础，可用于PECVD腔体、基座、射频电源、真空泵组及工艺冷却水路的温度管理。由于该类产品通常按工艺需求定制，具体型号、温域、制冷量、流量、压力、材质和控制方式需结合PECVD设备热负荷和现场条件确认。
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