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更新时间:2026-07-16
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普泰克 真空兼容循环冷却器核心优势介绍
在真空热试验、半导体晶圆测试、薄膜沉积及材料科学研究等场景中,真空腔体内部的散热途径极为有限——缺乏空气对流,热量仅能依靠热传导与热辐射传递,这对配套的冷却设备提出了较高要求。普泰克真空兼容循环冷却器在以下方面形成了较为突出的核心优势。
一、专为真空场景适配设计
产品明确适用于真空涂覆冷阱、半导体芯片测试、热沉试验、气体捕集及药品冻干等多种真空及低温相关用途。通过优化管路接口密封等级与循环介质参数,系统可适配真空腔体对接要求,有助于在深冷工况下维持介质顺畅循环。
二、直冷型制冷,降温响应较快
区别于传统的二次换热液冷方案,该设备采用制冷剂在负载端蒸发器内直接蒸发吸热的相变制冷方式。液态制冷剂在蒸发器中吸收热量后转变为气态,降温速度较液冷温差传热具有一定优势,同时无循环系统的设计使设备外形更为紧凑。
三、较宽的温度覆盖范围与定制能力
设备支持较宽的温度区间定制,范围可达-150℃至+35℃,可依据具体工艺需求进行非标扩展。适用于热沉低温试验、芯片低温测试、零部件环境试验及真空涂覆冷阱等多种工况。
四、系统运行稳定性与保温设计
采用整体式发泡保温设计,保温效果较好,设备表面不易产生凝露。控制上支持蒸发压力调节,有助于维持运行稳定性。设备内不含蒸发器,通过外部连接管路将低温低压液体制冷剂输送至客户负载,系统结构简洁可靠。
五、普泰克 真空兼容循环冷却器智能监控与安全防护
配备运行状态实时显示与故障自动诊断功能,设有多项报警保护机制。热气化霜功能可缩短化霜时间,减少对连续测试的影响。同时允许非标控制程序定制,便于适配不同测试流程的需求。

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