普泰克半导体工艺冷板冷却器

产品简介：

普泰克半导体工艺冷板冷却器，在半导体刻蚀、薄膜沉积、离子注入等核心制程中，工艺腔体内的冷板承担着精准控温的重要职责。冷板表面温度的均匀性与响应速度，直接影响晶圆表面的化学反应速率与薄膜生长质量。

Name: 普泰克 半导体工艺冷板冷却器
Brand: proteco/普泰克
Price: 35000 CNY
Availability: InStock

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更新时间：2026-07-16

厂商性质：生产厂家

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普泰克半导体工艺冷板冷却器核心优势介绍

在半导体刻蚀、薄膜沉积、离子注入等核心制程中，工艺腔体内的冷板承担着精准控温的重要职责。冷板表面温度的均匀性与响应速度，直接影响晶圆表面的化学反应速率与薄膜生长质量。普泰克半导体工艺冷板冷却器（Chiller）在以下方面形成了较为突出的核心优势：

一、精准的冷板表面温度控制

依托高精度PID控制算法与进口铂电阻温度传感器，系统力求实现每次控制结果的一致性。在特定工况下，部分机型控温精度可达±0.1℃，有助于减少温度波动对刻蚀速率、薄膜均匀性及关键尺寸（CD）控制带来的影响，辅助提升晶圆加工良率。

二、直冷型制冷，降温响应较快

采用制冷剂在冷板侧直接蒸发吸热的直冷型制冷方式，区别于传统的二次换热液冷方案。通过相变过程直接带走热量，降温速度具有一定优势。部分PTZL系列直冷机支持冷板温度200℃时直接开启压缩机降温，有助于缩短工艺切换等待时间。

三、较宽的温度覆盖与定制能力

支持较宽的温度区间定制，覆盖范围可达-150℃至+300℃（依具体机型与定制需求而定）。可依据客户冷板的尺寸、流道结构、热负荷特性进行非标定制，力求匹配不同刻蚀、沉积设备对冷板温度的具体要求。

四、冷板表面均温性优化

针对工艺冷板对表面温度均匀性的较高要求，系统通过优化循环介质流量与压力参数，确保在深冷或高温工况下介质能顺畅流经冷板内部微流道，有助于维持整块冷板表面温差的均匀性。优化的流体动力学流道设计，力求消除局部热点或冷点。

五、全密闭循环设计

采用全密闭式循环系统设计，循环管路与外界空气隔离，有助于避免低温工况下吸收空气中水分导致介质性能改变，同时减少对真空腔体内部环境的影响。系统无冷媒消耗，无需频繁补充介质，适合支持连续长时间运行。

六、普泰克半导体工艺冷板冷却器安全保护与智能监控

配备彩色触摸屏，支持温度、压力、流量等多参数实时显示与记录。系统内置多重报警保护机制，包括压缩机过热、制冷系统压力异常、超温自动断电及故障自诊断等，有助于提升设备运行过程中的安全防护水平。

普泰克半导体工艺冷板冷却器

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普泰克半导体工艺冷板冷却器，在半导体刻蚀、薄膜沉积、离子注入等核心制程中，工艺腔体内的冷板承担着精准控温的重要职责。冷板表面温度的均匀性与响应速度，直接影响晶圆表面的化学反应速率与薄膜生长质量。

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