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专注于半导体行业温控
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Chiller主要用于半导体制程中对多路反应腔室的精准控温，装置由热交换器、循环泵、压缩机和控制系统构成，采用先进的控制算法，提高了chiller的稳定性、控温精度和反应速度。在带负载的情况下控温精度可达±0.5℃，可在-20℃~85℃之间任意控温，有良好的温度稳定性。
Chiller半导体温控设备主要用于半导体制程中对多路反应腔室的精准控温，装置由热交换器、循环泵、压缩机和控制系统构成，采用先进的控制算法，提高了chiller的稳定性、控温精度和反应速度。
DLS系列半导体制冷装置可以广泛应用于民用和工业领域，例如医院、工厂等场所。主要应用于夹套反应釜、微通道反应器、反应装置、组合化学等冷热源动态恒温控制以及制药行业中的低温蒸馏、萃取等设备中。
Chiller半导体温控装置，可从高温300℃直接制冷降温，低温可达-150℃，控温精度0.5℃智能型控温，性能稳定，应用于石化、医药、生化、冻干、军工等高科技行业。
PTXF半导体温控系统基于高级动态控制系统，同时采用进口铂电阻温度传感器，每次都能实现一致的控制结果，大大提升产品生产的稳定性。
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