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普泰克 PECVD反应腔冷水机
产品简介:

普泰克 PECVD反应腔冷水机,主要用于稳定反应腔温度、带走腔壁和电极热负荷、配合基座换热回路运行,并为整机工艺冷却水回路提供恒温冷源。它不直接参与等离子体沉积反应,而是作为PECVD机台的热管理配套单元。

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更新时间:2026-10-19

厂商性质:生产厂家

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产品介绍
普泰克 PECVD反应腔冷水机,主要用于稳定反应腔温度、带走腔壁和电极热负荷、配合基座换热回路运行,并为整机工艺冷却水回路提供恒温冷源。它不直接参与等离子体沉积反应,而是作为PECVD机台的热管理配套单元。

具体能干什么

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应用部位具体作用
反应腔壁/腔体冷却带走腔壁、电极、外壳等部位热量,降低热漂移,支持沉积过程稳定运行。
基座/静电吸盘换热为基座换热回路提供稳定冷却或加热介质,提升晶圆/样品温度一致性。
射频电源与匹配网络冷却维持RF电源、匹配器工作温度,减少热波动对功率输出的影响。
真空系统冷却为干泵、分子泵、机械泵等提供连续冷却水,保障真空系统稳定运行。
整机工艺冷却水回路作为PECVD设备外部恒温冷源,降低厂务水温波动对设备运行的影响。
工艺温度曲线控制支持升温、恒温、降温及程序化控温,适配不同沉积工艺阶段。
研发与中试验证用于热负荷评估、温控窗口筛选、工艺重复性验证和设备联调。

普泰克 PECVD反应腔冷水机,为什么反应腔需要精密温控

PECVD沉积过程中,反应腔体壁、射频匹配箱、高频发生器都需要稳定的工艺冷却水带走热量;而晶圆载台在沉积后也需要精准温度控制,以支持成膜厚度均匀性。 若冷却水温度、流量或压力波动较大,可能导致沉积速率、薄膜应力和均匀性出现偏差。
普泰克半导体级温控产品控温精度可达±0.1℃,部分精密场景可进一步提升;其光刻机超精密温控方案可达±0.01℃级,但该精度主要面向光刻机等超精密场景,不宜直接套用于所有PECVD工况。

普泰克 PECVD反应腔冷水机


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