普泰克 PECVD反应腔冷水机,主要用于稳定反应腔温度、带走腔壁和电极热负荷、配合基座换热回路运行,并为整机工艺冷却水回路提供恒温冷源。它不直接参与等离子体沉积反应,而是作为PECVD机台的热管理配套单元。
具体能干什么
普泰克 PECVD反应腔冷水机,为什么反应腔需要精密温控
PECVD沉积过程中,反应腔体壁、射频匹配箱、高频发生器都需要稳定的工艺冷却水带走热量;而晶圆载台在沉积后也需要精准温度控制,以支持成膜厚度均匀性。 若冷却水温度、流量或压力波动较大,可能导致沉积速率、薄膜应力和均匀性出现偏差。
普泰克半导体级温控产品控温精度可达±0.1℃,部分精密场景可进一步提升;其光刻机超精密温控方案可达±0.01℃级,但该精度主要面向光刻机等超精密场景,不宜直接套用于所有PECVD工况。
