普泰克高精度PECVD温控

产品简介：

普泰克高精度PECVD温控，主要承担为PECVD机台提供稳定、精密、可重复的冷却与恒温控制。它不直接参与薄膜沉积反应，而是通过控制腔体、基座、射频电源、真空系统等关键部位的温度，帮助维持工艺热场稳定。

Name: 普泰克 高精度PECVD温控
Brand: proteco/普泰克
Price: 39000 CNY
Availability: InStock

产品型号：

更新时间：2026-10-19

厂商性质：生产厂家

访问量：7

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半导体温控设备

等离子体增强沉积温度控制高精度PECVD温控气体降温系统半导体工艺过程恒温器压缩机式温控器半导体废气低温冷凝系统精密控温机组液冷设备光刻机用超纯水Chiller Photo/Track Chiller 光刻后蚀刻温控光刻机涂胶显影机温控 Implant气体降温设备离子注入机温控设备纯水供应管线恒温超纯水温度控制单元抛光液生产温控系统蚀刻液温控chiller CMP浆液温控chiller 研磨液设备专用Chiller

产品介绍

普泰克高精度PECVD温控，主要承担为PECVD机台提供稳定、精密、可重复的冷却与恒温控制。它不直接参与薄膜沉积反应，而是通过控制腔体、基座、射频电源、真空系统等关键部位的温度，帮助维持工艺热场稳定。

具体能做什么

表格

应用部位	具体作用
反应腔体/沉积室温控	带走腔壁、电极、外壳等部位热量，降低热漂移，支持沉积过程稳定运行。
基座/静电吸盘换热	为基座换热回路提供稳定冷却或加热介质，提升晶圆/样品温度一致性。
射频电源与匹配网络冷却	维持RF电源、匹配器工作温度，减少功率波动和热漂移。
真空系统冷却	为干泵、分子泵、机械泵等提供连续冷却水，保障真空系统稳定运行。
整机冷却水回路管理	作为PECVD设备外部恒温冷源，降低厂务水温波动对设备运行的影响。
工艺温度曲线控制	支持升温、恒温、降温及程序化控温，适配不同沉积工艺阶段。
研发与中试验证	用于热负荷评估、温控窗口筛选、工艺重复性验证和设备联调。

为什么需要高精度温控

PECVD工艺对温度比较敏感。衬底温度会影响薄膜应力、密度、沉积速率和均匀性；腔体温度漂移可能导致工艺窗口变化；射频部件温度波动也可能影响功率输出稳定性。普泰克半导体级温控产品控温精度可达±0.1℃，部分精密场景可进一步提升；其光刻机超精密温控方案可达±0.01℃级，但该精度主要面向光刻机等超精密场景，不宜直接套用于所有PECVD工况。

普泰克高精度PECVD温控，设备工作方式

普泰克PECVD配套温控通常采用“检测—计算—调节—循环换热"闭环控制：

通过PT100等传感器采集回水温度、出口温度或负载端温度；
控制系统基于自适应PID算法计算所需冷热量；
通过压缩机制冷、电加热或半导体制冷等方式调节介质温度；
循环泵将控温后的导热介质输送至PECVD设备冷却回路；
对温度、流量、压力等参数进行实时监控，异常时触发报警或联锁保护。

普泰克高精度PECVD温控

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普泰克高精度PECVD温控，主要承担为PECVD机台提供稳定、精密、可重复的冷却与恒温控制。它不直接参与薄膜沉积反应，而是通过控制腔体、基座、射频电源、真空系统等关键部位的温度，帮助维持工艺热场稳定。

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为什么需要高精度温控

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