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Chiller主要用于半导体制程中对多路反应腔室的精准控温,装置由热交换器、循环泵、压缩机和控制系统构成,采用先进的控制算法,提高了chiller的稳定性、控温精度和反应速度。在带负载的情况下控温精度可达±0.5℃,可在-20℃~85℃之间任意控温,有良好的温度稳定性。
Chiller(刻蚀工艺机专用),专为半导体刻蚀(Etch)制程中严苛的温度控制需求量身打造。该设备以“精准动态控温、洁净安全运行、智能集成定制\\“为核心导向,力求为刻蚀腔室提供稳定、可靠、合规的专属冷源支持。
PTXF系列半导体温控系统采用PID控制技术,高清显示屏,设有多项保护功能,确保设备安全运行。通过机组自身的加热与冷却,向外界输送载热流体,满足工艺条件要求。
DLS系列半导体制冷装置可以广泛应用于民用和工业领域,例如医院、工厂等场所。主要应用于夹套反应釜、微通道反应器、反应装置、组合化学等冷热源动态恒温控制以及制药行业中的低温蒸馏、萃取等设备中。
Chiller半导体温控装置,可从高温300℃直接制冷降温,低温可达-150℃,控温精度0.5℃智能型控温,性能稳定,应用于石化、医药、生化、冻干、军工等高科技行业。
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