普泰克晶圆制造领域控温Chiller

产品简介：

普泰克晶圆制造领域控温Chiller，在晶圆制造的光刻、刻蚀、薄膜沉积（CVD/PVD）、CMP研磨及离子注入等核心制程中，温度控制的精度与稳定性直接影响晶圆表面的化学反应速率、薄膜生长质量与关键尺寸（CD）的控制精度。

Name: 普泰克 晶圆制造领域控温Chiller
Brand: proteco/普泰克
Price: 35000 CNY
Availability: InStock

产品型号：

更新时间：2026-07-16

厂商性质：生产厂家

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普泰克晶圆制造领域控温Chiller核心优势介绍

在晶圆制造的光刻、刻蚀、薄膜沉积（CVD/PVD）、CMP研磨及离子注入等核心制程中，温度控制的精度与稳定性直接影响晶圆表面的化学反应速率、薄膜生长质量与关键尺寸（CD）的控制精度。普泰克聚焦半导体前道全流程温控需求，其Chiller（高精度冷热循环器/换热温控单元）在以下方面形成了较为突出的核心优势。

一、宽制程覆盖，适配半导体前道全流程

普泰克Chiller产品线覆盖晶圆制造前道八大核心制程设备，可适配以下典型场景：

光刻工艺：光刻胶涂布站恒温供应、旋涂卡盘冷却、显影液温度管理

刻蚀工艺：干法/湿法刻蚀腔体及蚀刻液恒温控制

薄膜沉积（CVD/PVD）：反应腔室及晶圆载台精准温控

CMP研磨：研磨液恒温供应与分散系统温度管理

二、控温精度与一致性表现较为突出

依托高级动态控制算法与高精度温度传感技术，系统致力于确保每次控制结果的一致性，对提升产品生产的稳定性有一定帮助。部分PTS/PHE系列在特定工况下可实现较为精准的温度控制，有助于减少因热漂移导致的工艺偏差。采用自适应PID控制算法，可根据不同环境和负载自动优化调节，无需频繁手动调整参数。

三、全密闭循环设计，适配洁净环境

采用全密闭式系统设计，循环管路与外界空气隔离，仅保留必要的呼吸孔。该设计有助于：

减少导热介质在高温下的氧化及油雾产生，延长介质使用寿命

避免低温工况下吸收空气中水分，减少结霜结冰现象

降低介质污染风险，适配晶圆制造对洁净度的要求

四、快速响应与宽温域定制能力

参与循环的导热介质容积相对较小，加热和制冷响应速度较快，热惯性小，适用于晶圆制造中可能存在的温度调节需求。支持较宽的温度区间定制，部分解决方案可覆盖-80℃至+300℃，并可依据具体工艺需求进行非标扩展。采用超高温降温技术，可在较高温度工况下直接通入冷却水实现降温。

五、变频技术与运行能效

采用变频技术，通过系统结构设计和自主控制算法，可根据实际热负荷需求调节压缩机输出频率，在满足制程温度要求的同时兼顾运行能效。系统配备7英寸彩色触摸屏，支持温度曲线实时显示与记录。

六、普泰克晶圆制造领域控温Chiller智能监控与安全防护

设备支持温度、流量、压力等多参数同时监控与控制，具备运行状态实时显示与故障自动诊断功能。系统集成了多项报警保护机制（超温报警、泵故障保护、压力异常等），有助于提升设备运行过程中的安全防护水平。

普泰克晶圆制造领域控温Chiller

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