普泰克制冷设备
专注于半导体行业温控
服务热线：15214387784
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产品分类
普泰克 PECVD沉积后冷却，PECVD沉积结束后的降温/冷却阶段配置的精密温控设备，通常以加热冷却一体机、高低温循环器或TCU形式出现。它不直接完成薄膜沉积，而是为反应腔、基座、静电吸盘、载台及真空/射频辅助系统提供稳定的导热介质，承担受控降温、恒温保持、程序控温和循环换热任务。
普泰克 PECVD晶圆预热温控，PECVD晶圆入腔预热/基座升温阶段配置的精密温控设备，通常以加热冷却一体机、高低温循环器或TCU形式出现。它不直接完成薄膜沉积，而是为晶圆载台、静电吸盘、预热炉或预热模块提供稳定的导热介质，承担快速升温、恒温保持、程序控温和循环换热任务。
普泰克 PECVD退火工艺温控，PECVD薄膜退火/后处理工艺配置的精密温控设备，通常以加热冷却一体机、高低温循环器或TCU形式出现。它不直接完成退火炉加热，而是为退火设备或相关部件提供稳定的导热介质，承担制冷、加热、恒温、程序控温和循环换热任务。
普泰克 PECVD非晶硅沉积温控，PECVD非晶硅薄膜沉积工艺配置的精密温控设备，通常以冷水机、加热冷却一体机、高低温循环器或TCU形式出现。它不直接完成非晶硅成膜，而是为PECVD机台提供稳定的工艺冷却水/导热介质，承担制冷、加热、恒温、程序控温和循环换热任务。
普泰克 PECVD氧化硅沉积温控，PECVD SiO₂薄膜沉积工艺配置的精密温控设备，通常以冷水机、加热冷却一体机、高低温循环器或TCU形式出现。它不直接完成氧化硅成膜，而是为PECVD机台提供稳定的工艺冷却水/导热介质，承担制冷、加热、恒温、程序控温和循环换热任务。
普泰克 PECVD氮化硅沉积温控，PECVD氮化硅薄膜沉积工艺配置的精密温控设备，通常以冷水机、加热冷却一体机、高低温循环器或TCU形式出现。它不直接完成氮化硅成膜，而是为PECVD机台提供稳定的工艺冷却水/导热介质，承担制冷、加热、恒温、程序控温和循环换热任务。 这台设备具体能干什么
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