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普泰克 PECVD专用Chiller
产品简介:

普泰克 PECVD专用Chiller,为PECVD机台配置的精密冷水机或加热冷却一体温控机。它不直接完成薄膜沉积,而是作为PECVD设备的配套热管理单元,负责提供恒温、恒流、恒压的工艺冷却水或导热介质,用于冷却反应腔、基座、射频电源、真空系统及整机冷却回路。

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更新时间:2026-10-19

厂商性质:生产厂家

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产品介绍
普泰克 PECVD专用Chiller,可以理解为为PECVD机台配置的精密冷水机或加热冷却一体温控机。它不直接完成薄膜沉积,而是作为PECVD设备的配套热管理单元,负责提供恒温、恒流、恒压的工艺冷却水或导热介质,用于冷却反应腔、基座、射频电源、真空系统及整机冷却回路。

这台设备具体能干什么

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能干什么对PECVD配套的价值
冷却反应腔/腔壁带走腔体、电极、夹套等热负荷,降低热漂移,有助于维持沉积过程稳定。
为基座/静电吸盘提供换热介质维持基座换热回路温度稳定,提升晶圆/样品温度一致性。
为射频电源与匹配网络散热维持RF部件工作温度,减少热波动对功率输出的影响。
为真空系统提供冷却水支持干泵、分子泵、机械泵等连续稳定运行。
管理整机工艺冷却水回路作为外部恒温冷源,降低厂务水温波动对PECVD设备运行的影响。
支持恒温、降温及程序控温可按工艺阶段提供稳定冷却或温度曲线控制,便于工艺调试和重复性验证。
用于研发、中试和产线配套在设备开发、热负荷评估和工艺窗口筛选阶段提供可复现的温控条件。

普泰克 PECVD专用Chiller,为什么PECVD需要专用Chiller

PECVD运行过程中,反应腔、射频电源、匹配网络和真空泵组都会产生热负荷;若冷却水温度、流量或压力波动较大,可能影响沉积速率、薄膜均匀性和工艺重复性。 普泰克半导体级温控产品控温精度可达±0.1℃,温域覆盖-150℃至350℃,具备全密闭回路、自适应PID控制、模块化扩展和智能监控能力,能够较好匹配PECVD设备对温度稳定性、响应速度和连续运行的要求。

普泰克 PECVD专用Chiller


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