普泰克半导体沉积温控设备，理解为面向 CVD、PVD、ALD、PECVD 等薄膜沉积工艺配置的精密冷水机、加热冷却一体机或高低温温控系统。它不直接完成薄膜沉积，而是为沉积机台提供稳定的工艺冷却水/导热介质，承担制冷、加热、恒温、程序控温和循环换热任务。

Name: 普泰克 半导体沉积温控设备
Brand: proteco/普泰克
Price: 39000 CNY
Availability: InStock

产品型号：

更新时间：2026-10-19

厂商性质：生产厂家

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半导体温控设备

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产品介绍

普泰克半导体沉积温控设备，可以理解为面向 CVD、PVD、ALD、PECVD 等薄膜沉积工艺配置的精密冷水机、加热冷却一体机或高低温温控系统。它不直接完成薄膜沉积，而是为沉积机台提供稳定的工艺冷却水/导热介质，承担制冷、加热、恒温、程序控温和循环换热任务。

这台设备具体能干什么

表格

能干什么	对沉积工艺的价值
稳定反应腔/腔壁温度	带走腔体、电极、夹套等部位热负荷，降低热漂移。
为基座/静电吸盘提供换热介质	维持基座换热回路温度稳定，提升晶圆/样品温度一致性。
为射频电源与匹配网络散热	维持 RF 部件工作温度，减少热波动对功率输出的影响。
为真空系统提供冷却水	支持干泵、分子泵、机械泵等连续稳定运行。
支持升温、恒温、降温切换	一台设备同时具备制冷和加热能力，可适配不同工艺阶段。
执行程序化温度曲线	可按设定曲线完成升温、保温、降温，便于工艺调试和重复性验证。
管理整机工艺冷却水回路	降低厂务水温波动对沉积设备运行的影响。
用于研发、中试和产线配套	在设备开发、热负荷评估和工艺窗口筛选阶段提供可复现的温控条件。

普泰克半导体沉积温控设备，为什么沉积工艺需要精密温控

薄膜沉积过程中，反应腔、基座、射频电源、匹配网络和真空系统都会产生热负荷。温度波动可能影响沉积速率、薄膜均匀性、应力状态和工艺重复性。普泰克核心产品控温精度可达 ±0.1℃，温域覆盖 -150℃ 至 350℃，具备全密闭回路、自适应 PID 控制和模块化扩展能力，能够较好匹配沉积设备对温度稳定性、响应速度和连续运行的要求。

普泰克半导体沉积温控设备