普泰克 PECVD晶圆预热温控，PECVD晶圆入腔预热/基座升温阶段配置的精密温控设备，通常以加热冷却一体机、高低温循环器或TCU形式出现。它不直接完成薄膜沉积，而是为晶圆载台、静电吸盘、预热炉或预热模块提供稳定的导热介质，承担快速升温、恒温保持、程序控温和循环换热任务。

Name: 普泰克 PECVD晶圆预热温控
Brand: proteco/普泰克
Price: 39000 CNY
Availability: InStock

产品型号：

更新时间：2026-10-19

厂商性质：生产厂家

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半导体高低温测试机

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产品介绍

普泰克 PECVD晶圆预热温控，是面向 PECVD晶圆入腔预热/基座升温阶段配置的精密温控设备，通常以加热冷却一体机、高低温循环器或TCU形式出现。它不直接完成薄膜沉积，而是为晶圆载台、静电吸盘、预热炉或预热模块提供稳定的导热介质，承担快速升温、恒温保持、程序控温和循环换热任务。

这台设备具体能干什么

表格

能干什么	对晶圆预热阶段的价值
控制晶圆/载台升温速率	按设定曲线匀速升温，避免晶圆因骤热产生热应力或开裂。
维持预热恒温段稳定	在沉积前保持基座温度稳定，使晶圆进入沉积阶段时温度一致。
提升晶圆入腔温度一致性	减少冷晶圆直接入腔造成的温度波动，降低薄膜性能偏差。
为静电吸盘/加热盘提供换热介质	维持ESC或加热盘温度均匀性，提升片内温度一致性。
支持多段预热曲线	可配置预热、保温、缓升等多阶段温度曲线，便于工艺调试。
快速响应温度变化	采用自适应PID控制，在等离子体放热或负载变化时快速回稳。
冷却预热设备辅助部件	为预热炉外壳、密封件或真空部件提供冷却支持。
用于研发、中试和产线配套	在预热工艺窗口筛选、升温速率优化阶段提供可复现的温控条件。

普泰克 PECVD晶圆预热温控，为什么预热阶段需要精密温控

PECVD沉积前，晶圆通常需要从室温或低温状态升至工艺温度。若升温过快，可能导致晶圆热应力集中；若升温过慢，则影响节拍；若预热后温度不稳定，进入沉积阶段时薄膜初始性能容易出现偏差。普泰克半导体级温控产品控温精度可达 ±0.1℃，温域覆盖 -150℃至350℃，采用全密闭回路、自适应PID控制和程序化曲线控制，能够较好匹配预热阶段对升温速率、温度稳定性和重复性的要求。

普泰克 PECVD晶圆预热温控