普泰克制冷设备
专注于半导体行业温控
服务热线：15214387784
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普泰克 高密度等离子体PECVD温控，主要用于为 HDPCVD / HDP-PECVD 设备提供基座/静电吸盘、反应腔、喷淋头、ICP线圈、CCP偏置电极、匹配网络及真空系统的加热、冷却和温度管理。它不直接完成薄膜沉积，也不产生高密度等离子体，而是承担设备热负荷管理，保障沉积和刻蚀协同过程中的温度稳定性和工艺重复性。
普泰克 批量式PECVD温控，主要用于为批式/管式PECVD设备提供石墨舟/基座、炉管、反应腔、多温区加热回路、冷却回路及辅助部件的加热、冷却和温度管理。它不直接完成薄膜沉积，而是通过稳定批量晶圆在沉积过程中的温度环境，提升薄膜厚度、应力、折射率和均匀性的一致性。
普泰克 单片式PECVD温控，主要用于为单片式PECVD设备提供基座/卡盘、反应腔、喷淋头、射频/微波匹配网络及真空系统的加热、冷却和温度管理。它不直接完成薄膜沉积，而是通过稳定单片晶圆在沉积过程中的温度环境，提升薄膜厚度、应力、折射率和均匀性的一致性。
普泰克 多腔体PECVD温控，核心增量主要来自半导体前道PECVD多腔体机台、先进封装/化合物半导体/显示面板多腔室沉积平台，以及光伏PECVD多温区、多炉管配套需求。它不直接完成薄膜沉积，而是为多腔体PECVD设备提供基座/卡盘、反应腔、喷淋头、射频/微波匹配网络、真空系统及多温区回路的加热、冷却和温度管理，属于提升多腔体设备温度一致性和连续运行稳定性的配套环节。
普泰克 平板式PECVD温控系统，市场前景整体偏积极，核心增量主要来自 HJT光伏电池扩产、显示面板大尺寸玻璃基板PECVD、半导体先进封装与成熟制程 三大方向。它不直接完成薄膜沉积，而是为平板式PECVD机台提供基座/静电吸盘、反应腔、喷淋头、射频匹配网络及真空系统的加热、冷却和温度管理，属于平板式PECVD产线稳定运行的配套环节。
普泰克 管式PECVD温控，市场前景整体偏积极，核心增量主要来自 TOPCon、TBC、BC 等高效光伏电池扩产，以及半导体成熟制程、功率半导体和先进封装对批式薄膜沉积配套温控的需求。它不直接完成薄膜沉积，而是为管式PECVD机台提供石墨舟/基座、管壁、反应腔、冷却回路及辅助部件的温度管理，属于管式PECVD产线稳定运行的配套环节。
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