普泰克制冷设备
专注于半导体行业温控
服务热线：15214387784
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普泰克 微波PECVD温控，主要用于为 MPCVD/MW-PECVD/MWECR-PECVD 等微波等离子体沉积设备提供基座、腔体、喷淋头、微波天线、匹配网络及真空系统的加热、冷却和温度管理。它不直接产生微波等离子体，也不直接完成薄膜沉积，而是保障沉积过程中的温度稳定性、工艺重复性和关键部件连续运行。
普泰克 ICP-PECVD温控系统，面向感应耦合等离子体增强化学气相沉积设备配置的精密温控系统，主要用于为ICP-PECVD机台提供稳定的加热、冷却和温度管理。它不直接产生等离子体，也不直接完成薄膜沉积，而是承担基座、反应腔、喷淋头、ICP天线、匹配网络及真空系统等部件的温度控制，帮助维持沉积过程中的温度稳定性和工艺重复性。
普泰克 VHF-PECVD温控设备，面向甚高频等离子体增强化学气相沉积工艺配置的精密温控系统，主要用于为VHF-PECVD设备提供稳定的加热、冷却和温度管理。它不直接产生等离子体，也不直接完成薄膜沉积，而是承担反应腔、基座、喷淋头、电极、射频匹配网络及真空系统等关键部件的温度控制，帮助维持沉积过程中的温度稳定性和工艺重复性。
普泰克 RF-PECVD温控系统，面向射频等离子体增强化学气相沉积设备配置的精密温控系统，通常以加热冷却一体机、高低温循环器或TCU形式出现。它不直接完成薄膜沉积，也不直接产生等离子体，而是为RF-PECVD机台提供稳定的导热介质，承担基座恒温、反应腔控温、程序升降温、射频与真空部件冷却及整机回路管理。 这台设备具体能干什么
普泰克 MEMS工艺PECVD温控，面向 MEMS器件PECVD沉积配置的精密温控系统，通常以加热冷却一体机、高低温循环器或TCU形式出现。它不直接完成薄膜沉积，而是为MEMS PECVD机台提供稳定的导热介质，承担反应腔控温、基座恒温、程序升降温、射频/真空部件冷却和整机回路管理。
普泰克 化合物半导体PECVD温控，面向 GaN、GaAs、SiC、InP 等化合物半导体PECVD沉积工艺配置的精密温控系统，通常以加热冷却一体机、高低温循环器或TCU形式出现。它不直接完成薄膜沉积，而是为PECVD机台提供稳定的导热介质，承担反应腔控温、基座恒温、程序升降温、射频/真空部件冷却和整机回路管理。
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