普泰克 RF-PECVD温控系统，面向射频等离子体增强化学气相沉积设备配置的精密温控系统，通常以加热冷却一体机、高低温循环器或TCU形式出现。它不直接完成薄膜沉积，也不直接产生等离子体，而是为RF-PECVD机台提供稳定的导热介质，承担基座恒温、反应腔控温、程序升降温、射频与真空部件冷却及整机回路管理。
这台设备具体能干什么

Name: 普泰克 RF-PECVD温控系统
Brand: proteco/普泰克
Price: 39000 CNY
Availability: InStock

产品型号：

更新时间：2026-10-21

厂商性质：生产厂家

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半导体温控设备

多晶硅沉积温控等离子体增强沉积温度控制高精度PECVD温控气体降温系统半导体工艺过程恒温器压缩机式温控器半导体废气低温冷凝系统精密控温机组液冷设备光刻机用超纯水Chiller Photo/Track Chiller 光刻后蚀刻温控光刻机涂胶显影机温控 Implant气体降温设备离子注入机温控设备纯水供应管线恒温超纯水温度控制单元抛光液生产温控系统蚀刻液温控chiller CMP浆液温控chiller 研磨液设备专用Chiller

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普泰克 RF-PECVD温控系统，是面向射频等离子体增强化学气相沉积设备配置的精密温控系统，通常以加热冷却一体机、高低温循环器或TCU形式出现。它不直接完成薄膜沉积，也不直接产生等离子体，而是为RF-PECVD机台提供稳定的导热介质，承担基座恒温、反应腔控温、程序升降温、射频与真空部件冷却及整机回路管理。

这台设备具体能干什么

表格

功能模块	具体作用
基座/静电吸盘恒温	维持晶圆、玻璃基板或样品在沉积过程中的温度稳定，提升片内、片间一致性。
反应腔/喷淋头/腔壁控温	带走射频等离子体放热和工艺热负荷，降低腔体热漂移，稳定沉积环境。
射频电源与匹配网络冷却	维持RF发生器、匹配器在连续放电过程中稳定工作，减少热应力。
真空系统冷却	为干泵、分子泵、真空阀门等部件提供稳定冷却，保障真空系统连续运行。
程序升降温与工艺曲线控制	按设定曲线完成沉积前预热、沉积后缓冷，降低薄膜应力与基板翘曲风险。
整机工艺冷却水回路管理	降低厂务水温波动对RF-PECVD设备运行的影响，提升工艺重复性。
大面积/多温区沉积控温	适配显示面板、光伏、化合物半导体等大面积或分区加热腔体的温控需求。
低温与中温PECVD配套	支持柔性基板、OLED封装、化合物半导体等对热预算较敏感的沉积工艺。
研发、中试和产线配套	在工艺窗口筛选、薄膜应力/折射率调控、批次一致性验证阶段提供可复现的温控条件。

普泰克 RF-PECVD温控系统，为什么RF-PECVD更强调温控稳定性

RF-PECVD通过射频电源电离反应气体形成等离子体，等离子体放电会持续向腔体、电极和喷淋头释放热量，容易干扰腔室温度稳定。同时，衬底温度直接影响薄膜沉积速率、应力、致密度、折射率、化学计量比和均匀性；温度波动可能导致膜厚漂移、应力不均、折射率变化或器件可靠性下降。普泰克半导体级温控产品控温精度可达 ±0.1℃，温域覆盖 -150℃至350℃，采用全密闭回路、自适应PID控制和程序化曲线控制，能够较好匹配RF-PECVD对温度稳定性、响应速度和连续运行的要求。

普泰克 RF-PECVD温控系统