普泰克 VHF-PECVD温控设备，面向甚高频等离子体增强化学气相沉积工艺配置的精密温控系统，主要用于为VHF-PECVD设备提供稳定的加热、冷却和温度管理。它不直接产生等离子体，也不直接完成薄膜沉积，而是承担反应腔、基座、喷淋头、电极、射频匹配网络及真空系统等关键部件的温度控制，帮助维持沉积过程中的温度稳定性和工艺重复性。

Name: 普泰克 VHF-PECVD温控设备
Brand: proteco/普泰克
Price: 39000 CNY
Availability: InStock

产品型号：

更新时间：2026-10-21

厂商性质：生产厂家

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半导体温控设备

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普泰克 VHF-PECVD温控设备，产品介绍

普泰克VHF-PECVD温控设备是面向甚高频等离子体增强化学气相沉积工艺配置的精密温控系统，主要用于为VHF-PECVD设备提供稳定的加热、冷却和温度管理。它不直接产生等离子体，也不直接完成薄膜沉积，而是承担反应腔、基座、喷淋头、电极、射频匹配网络及真空系统等关键部件的温度控制，帮助维持沉积过程中的温度稳定性和工艺重复性。

产品定位

VHF-PECVD通常在甚高频激励下形成等离子体，具备等离子体密度较高、沉积速率较快、低温成膜能力较好等特点，常用于介质膜、钝化层、减反射膜、封装层等功能薄膜沉积。由于VHF放电对腔体热负荷、基座温度均匀性和冷却水稳定性较为敏感，温控系统需要能够及时补偿等离子体放热带来的温度波动，并支持沉积前预热、沉积恒温、沉积后缓冷等工艺阶段。

主要功能

基座/载台恒温控制：维持晶圆、玻璃基板或样品在沉积过程中的温度稳定，支持薄膜厚度、应力和折射率一致性控制。
反应腔与喷淋头控温：带走VHF等离子体放热和工艺热负荷，降低腔体热漂移，稳定沉积环境。
射频电源与匹配网络冷却：为RF/VHF电源、匹配器提供连续冷却，减少热应力，保障长时间运行稳定性。
真空系统冷却：支持干泵、分子泵、真空阀门等部件稳定运行。
程序升降温管理：可按工艺需求完成预热、恒温、缓冷等温度曲线控制，降低基板热应力。
整机回路管理：通过流量、压力、温度等参数监控，提升工艺过程的可复现性。

适用场景

表格

应用方向	典型用途
半导体介质膜沉积	用于SiO₂、SiNₓ、SiON等介质层、钝化层沉积配套温控
光伏电池薄膜沉积	用于减反射膜、钝化膜等VHF-PECVD工艺温度管理
显示面板薄膜沉积	用于TFT-LCD、OLED、Micro-LED相关介质层和封装层配套
化合物半导体工艺	用于GaN、SiC等器件低温钝化层或绝缘层沉积温控
MEMS与传感器	用于应力层、钝化层、封装层沉积过程温度管理
研发与中试平台	用于工艺窗口筛选、薄膜性能调控和批次一致性验证