普泰克制冷设备
专注于半导体行业温控
服务热线：15214387784
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普泰克 光刻机腔体温控，该温控系统聚焦于光刻机腔体对温度稳定性、均温性及洁净度的严苛要求，致力于提供持续、平稳、高精度的恒温控制环境，力求保障光刻工艺的良率与可靠性，是优良光刻装备中的核心配套系统。
普泰克 光刻机高精度温控，是一款专为半导体光刻工艺量身定制的精密热管理装备。在光刻制程中，光学镜头、掩模台及晶圆载台等核心组件对温度极其敏感，微小的热变形均可能导致线宽偏差与套刻误差。
普泰克 涂胶显影机温控，涂胶显影（Track）工艺是芯片制造中极为关键的一环，其内部的软烤（Soft Bake）与硬烤（Post Exposure Bake, PEB）等工序对温度的均匀性与稳定性要求。
普泰克 Implant气体降温系统，在Implant（离子注入）等核心前道工艺中，高能离子束轰击产生的瞬时高热负荷对晶圆表面的热管理提出了更为严苛的要求。
普泰克 Implant气体降温设备，依托成熟的热力学循环与精密自动化控制技术，旨在为半导体前道工艺提供稳定、洁净的低温气体环境。
普泰克 离子注入气体降温设备，依托于成熟的热力学与精密控制技术，旨在为半导体前道工艺提供稳定、洁净的低温气体环境。
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