半导体温控设备_第(9)页-普泰克（上海）制冷设备技术有限公司

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半导体温控设备

多晶硅沉积温控等离子体增强沉积温度控制高精度PECVD温控气体降温系统半导体工艺过程恒温器压缩机式温控器半导体废气低温冷凝系统精密控温机组液冷设备光刻机用超纯水Chiller Photo/Track Chiller 光刻后蚀刻温控光刻机涂胶显影机温控 Implant气体降温设备离子注入机温控设备纯水供应管线恒温超纯水温度控制单元抛光液生产温控系统蚀刻液温控chiller CMP浆液温控chiller 研磨液设备专用Chiller

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普泰克光刻机光学系统温控

普泰克光刻机光学系统温控，依托于精密的热力学设计与优良的自动化控制算法，旨在为光刻机核心光学组件提供高度稳定、无振动的恒温环境。

更新时间：2026-09-04

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普泰克光刻机恒温控制设备

普泰克光刻机恒温控制设备，是一款专为半导体优良光刻制程量身定制的核心精密温控装备。在光刻工艺中，光学镜头、掩模台、晶圆载台及光源系统等核心组件对温度极其敏感，微小的热变形或折射率变化均可能导致线宽偏差与套刻误差。

更新时间：2026-09-04

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普泰克光刻机液冷温控

普泰克光刻机液冷温控，是一款专为半导体光刻核心制程量身定制的精密热管理装备。在优良的光刻工艺中，光源、光学镜头、掩模台及晶圆载台等核心组件对温度极其敏感，微小的热变形或折射率变化均可能导致线宽偏差与套刻误差。

更新时间：2026-09-04

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普泰克光刻机温度控制系统

普泰克光刻机温度控制系统，是一款专为半导体优良光刻工艺量身定制的核心精密温控装备。在光刻制程中，光源、光学镜头、掩模台及晶圆载台等核心组件对温度极其敏感，微小的热变形或折射率变化均可能导致线宽偏差与套刻误差。

更新时间：2026-09-04

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普泰克光刻机温控系统

普泰克光刻机温控系统，以及极紫外光刻（EUV）等前沿技术的加速应用，芯片制造对工艺精度的要求达到高度。

更新时间：2026-09-04

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普泰克光刻机温控设备

普泰克光刻机温控设备，是一款专为半导体光刻核心制程量身定制的精密热管理装备。在优良的光刻工艺中，光源、光学镜头、掩模台及晶圆载台等核心组件对温度极其敏感，微小的热变形或折射率变化均可能导致线宽偏差与套刻误差。

更新时间：2026-09-04

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