普泰克 单片式PECVD温控,主要用于为单片式PECVD设备提供基座/卡盘、反应腔、喷淋头、射频/微波匹配网络及真空系统的加热、冷却和温度管理。它不直接完成薄膜沉积,而是通过稳定单片晶圆在沉积过程中的温度环境,提升薄膜厚度、应力、折射率和均匀性的一致性。
具体能干什么
普泰克 单片式PECVD温控的特点
与管式、多腔体或板式PECVD相比,单片式PECVD更强调单片晶圆温度均匀性、快速热响应和工艺切换稳定性。单片工艺通常用于逻辑、存储、功率器件、MEMS、化合物半导体、先进封装等对薄膜一致性要求较高的场景,温控系统需要能够及时补偿等离子体放热、负载变化和工艺切换带来的温度波动。
普泰克半导体级温控产品控温精度可达 ±0.1℃,温域覆盖 -150℃至350℃,采用全密闭回路、自适应PID控制和程序化曲线控制,能够较好匹配单片式PECVD对温度稳定性、响应速度和连续运行的要求。
