普泰克制冷设备

专注于半导体行业温控

服务热线：15214387784

产品中心

PRODUCTS CENTER

当前位置：首页产品中心半导体高低温测试机PECVD薄膜沉积温控普泰克 卷对卷PECVD温控

普泰克 卷对卷PECVD温控
产品简介：

普泰克 卷对卷PECVD温控，通常用于柔性基材、金属箔、薄膜或线材的连续沉积，工艺过程中基材会持续通过反应区，等离子体放热、基材张力变化、收放卷速度波动和多温区热分布都会影响成膜均匀性。

产品型号：

更新时间：2026-10-29

厂商性质：生产厂家

访 问 量 ：2

服务热线

15214387784

立即咨询

产品分类

PRODUCT CLASSIFICATION
查看全部产品

相关文章

RELATED ARTICLES
直冷型低温制冷机组工业流程的“极寒引擎”
普泰克温控芯片的应用
直冷机节能技巧：告别高耗电，提升设备运行能效
半导体温控新视角：Chiller带来的散热变革
半导体制冷装置的奥秘：从芯片到散热的精密构造
产品介绍

普泰克 卷对卷PECVD温控，产品定位

卷对卷PECVD通常用于柔性基材、金属箔、薄膜或线材的连续沉积，工艺过程中基材会持续通过反应区，等离子体放热、基材张力变化、收放卷速度波动和多温区热分布都会影响成膜均匀性。普泰克可为此类平台提供配套温控方案，用于反应腔、加热炉体/多温区、基座/导向辊、匹配网络、真空系统及辅助回路的热管理，支持程序升降温、快速热响应和连续运行稳定性。

主要功能

功能模块具体作用
多温区炉体/反应腔控温配合卷对卷PECVD的多温区加热结构，维持沿基材传输方向的温度均匀性
基座/导向辊/载台恒温降低基材在连续传输过程中的温度漂移，减少膜厚和应力波动
等离子体源与匹配网络冷却为RF/VHF/ICP/MW电源及匹配器提供连续冷却，保障长时间稳定运行
真空系统冷却为真空泵、阀门、腔体密封件等提供稳定冷却，支持连续生产
程序升降温管理按工艺曲线完成预热、恒温、缓冷，降低柔性基材热冲击风险
多回路协同管理适配放卷区、沉积区、冷却区、收卷区等不同工位温度需求
运行状态监控对温度、流量、压力等参数进行监控，便于产线稳定运行

产品特点

  • 快速热响应：参与循环的导热介质较少，加热和冷却响应较快，适合连续传输和工艺切换场景。

  • 全密闭循环设计：减少导热介质与空气接触，有助于延长介质使用寿命并降低污染风险。

  • 自适应PID控制：可根据负载变化动态调节输出，提升温度稳定性和控制重复性。

  • 宽温域可配置：可覆盖低温预处理、常温沉积、中高温烘烤与固化等不同工艺窗口。

  • 模块化与可定制：可根据卷对卷PECVD机台热负荷、温区数量、流量和通讯接口进行配置。

  • 多重安全保护：支持温度、流量、压力、过载等报警保护，便于连续生产。

普泰克 卷对卷PECVD温控，适用场景

应用领域典型用途温控作用
二维材料/石墨烯柔性箔材、金属箔、碳基材料连续沉积稳定多温区和反应腔温度
柔性电子与光学薄膜柔性基板功能层、阻隔膜、透明导电层降低柔性基材热损伤风险
新能源材料电极材料、功能涂层、薄膜改性支持连续放卷/收卷温控
化合物半导体与功率器件柔性或薄膜器件钝化层、绝缘层维持低温沉积窗口稳定
光纤/线材/金属箔改性线材表面改性、连续镀膜为加热区、冷却区和真空部件提供温控
研发与中试平台卷对卷工艺窗口筛选、薄膜均匀性验证提供可编程升降温和多回路支持

普泰克 卷对卷PECVD温控


上一个：普泰克 旋涂式PECVD温控

返回列表

下一个：普泰克 PECVD反应腔体温控

在线留言

ONLINE MESSAGE

留言框

  • 产品：

  • 您的单位：

  • 您的姓名：

  • 联系电话：

  • 常用邮箱：

  • 省份：

  • 详细地址：

  • 补充说明：

  • 验证码：

    请输入计算结果（填写阿拉伯数字），如：三加四=7

  • 服务热线 15214387784
  • 电子邮箱

    ptktg001@pro-teco.com

扫码加微信

关于我们新闻中心技术文章在线留言联系我们

Copyright © 2026 普泰克（上海）制冷设备技术有限公司版权所有    备案号：沪ICP备2021029247号-5

技术支持：化工仪器网    sitemap.xml