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普泰克 等离子增强沉积温控机组
产品简介：

普泰克 等离子增强沉积温控机组，等离子体沉积工艺配置的高低温一体温控系统/精密冷水机/TCU温控单元。它不直接完成薄膜沉积，而是为沉积机台提供稳定的工艺冷却水或导热介质，实现制冷、加热、恒温、程序控温和循环换热。

产品型号：

更新时间：2026-10-19

厂商性质：生产厂家

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产品介绍
普泰克 等离子增强沉积温控机组，可以理解为普泰克面向 PECVD/MOCVD 等等离子体沉积工艺配置的高低温一体温控系统/精密冷水机/TCU温控单元。它不直接完成薄膜沉积，而是为沉积机台提供稳定的工艺冷却水或导热介质，实现制冷、加热、恒温、程序控温和循环换热。

这台设备具体能干什么

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能干什么对沉积工艺的价值
稳定反应腔/腔壁温度带走腔体、电极、腔壁等热负荷，降低热漂移，有助于维持沉积过程稳定。
为基座/静电吸盘提供换热介质维持基座换热回路温度稳定，提升晶圆/样品温度一致性。
支持升温、恒温、降温切换一台设备同时具备制冷和加热能力，可适配不同工艺阶段和温度曲线。
为射频电源与匹配网络散热维持 RF 部件工作温度，减少热波动对功率输出的影响。
为真空系统提供冷却水支持干泵、分子泵等真空部件连续稳定运行。
执行程序化温度控制可按设定曲线完成升温、保温、降温，便于工艺调试和重复性验证。
管理整机工艺冷却水回路降低厂务水温波动对沉积设备运行的影响。
用于研发、中试和联调在设备开发、热负荷评估和工艺窗口筛选阶段提供可复现的温控条件。

为什么等离子体沉积需要精密温控

等离子体增强沉积过程中，反应腔、基座、射频电源、匹配网络和真空系统都会产生热负荷。温度波动可能影响沉积速率、薄膜均匀性、应力状态和工艺重复性。普泰克半导体级温控产品控温精度可达 ±0.1℃，部分精密场景可进一步提升；其光刻机超精密温控方案可达 ±0.01℃ 级，但该精度主要面向光刻等超精密场景，不宜直接套用于所有沉积工况。

普泰克 等离子增强沉积温控机组，典型工作方式

设备通常按“检测—计算—调节—循环换热"闭环运行：

  1. 通过温度传感器采集回水、出水或负载端温度；

  2. 控制系统基于自适应 PID 计算所需冷热量；

  3. 通过压缩机制冷、电加热或半导体制冷等方式调节介质温度；

  4. 循环泵将控温后的介质输送至沉积设备冷却回路；

  5. 对温度、流量、压力进行实时监控，异常时触发报警或联锁保护。

普泰克 等离子增强沉积温控机组


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