普泰克大面积PECVD温控，面向大尺寸基板/大腔体PECVD设备配置的精密温控系统，通常以加热冷却一体机、高低温循环器或TCU形式出现。它不直接完成薄膜沉积，而是为大面积PECVD机台提供稳定的导热介质，承担反应腔控温、基座恒温、程序升降温、射频/真空部件冷却和整机回路管理。

Name: 普泰克 大面积PECVD温控
Brand: proteco/普泰克
Price: 39000 CNY
Availability: InStock

产品型号：

更新时间：2026-10-21

厂商性质：生产厂家

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半导体温控设备

多晶硅沉积温控等离子体增强沉积温度控制高精度PECVD温控气体降温系统半导体工艺过程恒温器压缩机式温控器半导体废气低温冷凝系统精密控温机组液冷设备光刻机用超纯水Chiller Photo/Track Chiller 光刻后蚀刻温控光刻机涂胶显影机温控 Implant气体降温设备离子注入机温控设备纯水供应管线恒温超纯水温度控制单元抛光液生产温控系统蚀刻液温控chiller CMP浆液温控chiller 研磨液设备专用Chiller

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产品介绍

普泰克大面积PECVD温控，面向大尺寸基板/大腔体PECVD设备配置的精密温控系统，通常以加热冷却一体机、高低温循环器或TCU形式出现。它不直接完成薄膜沉积，而是为大面积PECVD机台提供稳定的导热介质，承担反应腔控温、基座恒温、程序升降温、射频/真空部件冷却和整机回路管理。

这台设备具体能用在哪里

表格

适用场景	具体用途
大尺寸玻璃基板PECVD沉积	用于TFT-LCD、OLED、Micro-LED面板中SiNₓ、SiO₂、a-Si等薄膜沉积过程的基座和腔体控温。
大面积反应腔/腔壁控温	带走等离子体放热和工艺热负荷，维持大腔体温度稳定，降低热漂移。
大面积基座/静电吸盘恒温	保持玻璃基板或大尺寸晶圆在沉积阶段温度均匀，提升片内、片间一致性。
显示面板背板薄膜沉积	适配a-Si、LTPS、金属氧化物背板工艺中PECVD介质层、栅极绝缘层沉积。
光伏大面积钝化/减反射膜沉积	用于TOPCon、PERC、HJT等工艺路线中大尺寸硅片或大产能管式PECVD配套温控。
柔性/卷对卷大面积薄膜沉积	用于柔性电子、薄膜太阳能电池等大面积基底上的低温PECVD成膜配套。
大面积光学薄膜沉积	支持大尺寸减反射膜、透明导电层、光学封装层等沉积过程中的温度管理。
沉积前预热与沉积后缓冷	帮助大尺寸基板平稳升至工艺温度并按设定曲线降温，降低热应力。
射频电源、匹配网络与真空系统冷却	在大面积、高功率沉积过程中维持RF部件、干泵、分子泵等连续稳定运行。
整机工艺冷却水回路管理	降低厂务水温波动对大面积PECVD设备运行的影响。
研发、中试和产线配套	在大面积沉积工艺窗口筛选、均匀性优化、批次一致性验证阶段提供可复现的温控条件。

普泰克大面积PECVD温控，为什么大面积PECVD更依赖精密温控

大面积PECVD的基板尺寸远大于常规晶圆，例如显示面板玻璃基板可达Gen 5至Gen 11规格，光伏硅片也向210mm及以上发展。基板面积越大，温度均匀性控制难度越高；腔体温度漂移、冷却水波动或基座温差都可能导致膜厚不均、折射率漂移、应力分布不一致或良率下降。普泰克半导体级温控产品控温精度可达 ±0.1℃，温域覆盖 -150℃至350℃，采用全密闭回路、自适应PID控制和程序化曲线控制，能够较好匹配大面积PECVD对温度稳定性、响应速度和连续运行的要求。

普泰克大面积PECVD温控