普泰克 刻蚀机台冷板温控,在半导体刻蚀工艺中,等离子体反应产生的热负荷对反应腔室及晶圆载台(冷板)的温度控制提出了较高要求。冷板表面温度的稳定性与均匀性,直接影响关键尺寸(CD)的控制精度与刻蚀速率的批次一致性。
普泰克 半导体控温设备,在半导体制造的前道光刻、刻蚀、沉积,到后道封装测试等核心制程中,温度控制的精度与稳定性直接影响芯片性能与良率。
普泰克 精密控温机组解决方案,依托其深厚的精密热管理技术积累与成熟的模块化部件平台,专为半导体制造、生物制药、医疗、新材料研发及航空航天等前沿领域量身打造。
普泰克 光刻机用超纯水Chiller,依托成熟的热力学循环与精密自动化控制技术,专为半导体光刻工艺中水质要求高的温控场景设计。
普泰克 光刻工艺温度控制chiller,依托成熟的热力学循环与精密自动化控制技术,旨在为半导体光刻工艺提供稳定、洁净、低振动的恒温环境。
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