普泰克玻璃基板PECVD温控，面向大尺寸玻璃基板PECVD沉积配置的精密温控系统，通常以加热冷却一体机、高低温循环器或TCU形式出现。它不直接完成薄膜沉积，而是为玻璃基板PECVD机台提供稳定的导热介质，承担反应腔控温、基座恒温、程序升降温、射频/真空部件冷却和整机回路管理。

Name: 普泰克 玻璃基板PECVD温控
Brand: proteco/普泰克
Price: 39000 CNY
Availability: InStock

产品型号：

更新时间：2026-10-21

厂商性质：生产厂家

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普泰克玻璃基板PECVD温控，面向大尺寸玻璃基板PECVD沉积配置的精密温控系统，通常以加热冷却一体机、高低温循环器或TCU形式出现。它不直接完成薄膜沉积，而是为玻璃基板PECVD机台提供稳定的导热介质，承担反应腔控温、基座恒温、程序升降温、射频/真空部件冷却和整机回路管理。

这台设备具体能用在哪里

表格

适用场景	具体用途
TFT-LCD阵列薄膜沉积	用于玻璃基板上SiNₓ缓冲层、SiO₂栅极绝缘层、a-Si有源层等PECVD沉积过程的基座和腔体控温。
OLED薄膜封装层沉积	适配玻璃基板或柔性PI基底上SiNₓ/SiO₂封装层沉积，保障水汽阻隔性能和膜层致密度。
LTPS低温多晶硅背板工艺	用于AMOLED和高分辨率TFT-LCD中LTPS背板相关PECVD介质层沉积的温度管理。
大尺寸玻璃基板基座恒温	保持Gen 5至Gen 8.5等大尺寸玻璃基板沉积温度均匀，提升大面积膜厚和折射率一致性。
触控面板绝缘层/保护层沉积	用于触控传感器中SiNₓ、SiO₂等绝缘层和保护层沉积的温控配套。
Micro-LED/Mini-LED基板沉积	适配Micro-LED巨量转移前绝缘层、钝化层等PECVD工艺的温度管理。
玻璃基板预热与缓冷	帮助大尺寸玻璃基板平稳升至工艺温度并按设定曲线降温，降低热应力和翘曲风险。
反应腔/腔壁控温	带走等离子体放热和工艺热负荷，维持大腔体温度稳定，降低热漂移。
射频电源、匹配网络与真空系统冷却	在大面积、高功率沉积过程中维持RF部件、干泵、分子泵等连续稳定运行。
整机工艺冷却水回路管理	降低厂务水温波动对玻璃基板PECVD设备运行的影响。
研发、中试和产线配套	在玻璃基板沉积工艺窗口筛选、大面积均匀性优化、批次一致性验证阶段提供可复现的温控条件。

普泰克玻璃基板PECVD温控

为什么玻璃基板PECVD对温控要求较高

玻璃基板PECVD主要用于显示面板TFT阵列和OLED封装等制程，基板尺寸可达Gen 5至Gen 8.5甚至更大。大面积基板对温度均匀性极为敏感——基座温差、腔壁热漂移或冷却水波动都可能导致膜厚不均、折射率漂移、应力分布不一致，进而影响显示面板的良率和寿命。普泰克半导体级温控产品控温精度可达 ±0.1℃，温域覆盖 -150℃至350℃，采用全密闭回路、自适应PID控制和程序化曲线控制，能够较好匹配玻璃基板PECVD对温度稳定性、响应速度和连续运行的要求。

普泰克玻璃基板PECVD温控