普泰克制冷设备
专注于半导体行业温控
服务热线：15214387784
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普泰克 PECVD碳化硅沉积温控，面向 PECVD SiC / a-SiC 薄膜沉积工艺配置的精密温控系统，通常以加热冷却一体机、高低温循环器或TCU形式出现。它不直接完成碳化硅成膜，而是为PECVD机台提供稳定的导热介质，承担反应腔控温、基座恒温、程序升降温、射频/真空部件冷却和整机回路管理。
普泰克 PECVD多晶硅沉积温控，面向 PECVD多晶硅薄膜沉积工艺配置的精密温控系统，通常以加热冷却一体机、高低温循环器或TCU形式出现。它不直接完成多晶硅成膜，而是为PECVD机台提供稳定的导热介质，承担反应腔控温、基座恒温、程序升降温、射频/真空部件冷却和整机回路管理。
普泰克 高温PECVD温控，面向 250–400℃及以上工艺温度区间配置的精密温控系统，通常以加热冷却一体机、高低温循环器或TCU形式出现。它不直接完成薄膜沉积，而是为高温PECVD机台提供稳定的导热介质，承担反应腔控温、基座恒温、程序升降温、射频/真空部件冷却和整机回路管理。
普泰克 低温PECVD温控，面向 100–200℃左右低温PECVD工艺配置的精密温控系统，通常以加热冷却一体机、高低温循环器或TCU形式出现。它不直接完成薄膜沉积，而是为低温PECVD机台提供稳定的导热介质，承担反应腔控温、基座恒温、程序升降温、射频/真空部件冷却和整机回路管理。 这台设备具体能用在哪里
普泰克 等离子体增强沉积温度控制，它负责给反应腔、基座、射频部件、真空系统和整机冷却回路提供恒温、恒流、恒压的导热介质，实现制冷、加热、恒温、程序控温和闭环换热。
普泰克 半导体沉积温控设备，理解为面向 CVD、PVD、ALD、PECVD 等薄膜沉积工艺配置的精密冷水机、加热冷却一体机或高低温温控系统。它不直接完成薄膜沉积，而是为沉积机台提供稳定的工艺冷却水/导热介质，承担制冷、加热、恒温、程序控温和循环换热任务。
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